Fabricante de materiales objetivo de pulverización catódica 99.95% hoja de tantalio blanco de pulverización catódica

Name: Fabricante de materiales objetivo de pulverización catódica 99.95% hoja de tantalio blanco de pulverización catódica
Brand: MIKIM TECHNIQUE LLC
SKU: 1601292042996
Price: 50 USD
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Fabricante de materiales objetivo de pulverización catódica 99.95% hoja de tantalio blanco de pulverización catódica

Atributos clave

Especificación esencial de la industria

Uso

Industria

Otros atributos

Lugar del origen

Henan, China

Marca

Tantalum target

Número de Modelo

Tantalum target

Forma

Objetivo

Material

Tantalio

Composición Química

99,95% de tantalio

Nombre del producto

Objetivo de tantalio

Venta de unidades

Artículo único

Embalaje

Como su petición

Capacidad de suministro

10000 pedazos/pedazos por mes

Nombre de la marca

ZhenAn

Plazo de entrega

Cantidad (piezas)	1 - 20	> 20
Est. tiempo (días)	15	Para negociar

Descripciones de productos del proveedor

Tantalio

Introducción al objetivo de tantalio: El objetivo de tantalio es un metal hecho del elemento químico tantalio. Se utiliza principalmente en imágenes médicas y radioterapia, especialmente para máquinas de rayos X. También se utiliza en la producción de materiales como válvulas, bombas e intercambiadores de calor. La extrema dureza del material lo hace ideal para estas aplicaciones porque puede soportar altas temperaturas y presiones. Principales usos de los objetivos de tantalio: Uno de los usos más comunes de los objetivos de tantalio es como material objetivo para diversas fuentes de radiación, como haces de electrones y rayos X. Las propiedades propias del tantalio lo convierten en la mejor materia prima para este tipo de aplicaciones porque puede soportar altas temperaturas y radiación sin dañarse ni perder su eficacia. Los objetivos de tantalio se usan comúnmente en fusión por haz de electrones (EBM) y soldadura por haz de electrones (EBW). Los haces de electrones se utilizan en estos procesos para fundir y soldar metales juntos. El proceso EBM implica el uso de un objetivo de tantalio, que se coloca en la trayectoria del haz de electrones. Los electrones golpean el objetivo, haciendo que se caliente y finalmente Derrita el metal que se está procesando. Este proceso se utiliza a menudo para unir metales y aleaciones diferentes porque permite un alto grado de precisión y control. Además, el intenso calor generado por el haz de electrones se puede utilizar para formar formas y estructuras complejas. El tantalio también se utiliza en fuentes de rayos X. Las fuentes de rayos X producen rayos X al bombardear un objetivo de tantalio con electrones de alta energía. Los electrones interactúan con el objetivo, produciendo rayos X que luego se dirigen hacia el objeto que se inspecciona. El proceso se utiliza a menudo en imágenes médicas y otras aplicaciones industriales porque proporciona una vista detallada de la estructura interna de un objeto. Ventajas y desventajas de las aplicaciones objetivo de tantalio: El uso de objetivos de tantalio en fuentes de radiación tiene muchas ventajas. En primer lugar, tiene una fuerte resistencia a la corrosión y la oxidación, lo que significa que se puede utilizar en una variedad de entornos. Además, los objetivos de tantalio son relativamente baratos, lo que los convierte en una opción rentable para muchas aplicaciones. Finalmente, son relativamente fáciles de usar, lo que permite una alta precisión cuando se usan en fuentes de radiación. A pesar de estas ventajas, todavía hay algunas desventajas al usar objetivos de tantalio. Uno de los principales problemas es que el tantalio es un material radiactivo, lo que significa que produce radiación de fondo que puede interferir con el funcionamiento de las fuentes de radiación sensibles. Además, si el tantalio se sobrecalienta, puede producir humos tóxicos que son perjudiciales para los trabajadores y el medio ambiente. Por último, los objetivos de tantalio pueden ser difíciles de procesar porque el material tiene una baja conductividad térmica, lo que significa que tarda más en calentarse y enfriarse que otros metales. El uso de objetivos de tantalio en fuentes de radiación es una buena elección porque tiene muchas ventajas sobre otros materiales. Es altamente resistente a la corrosión y la oxidación, lo que lo hace adecuado para su uso en una variedad de entornos. También es relativamente barato, fácil de usar y tiene alta precisión y exactitud. Sin embargo, es importante ser consciente de los riesgos potenciales asociados con el uso de objetivos de tantalio, como la radiación de fondo y los humos tóxicos. Los objetivos de tantalio, con su alto punto de fusión, textura dura, buena ductilidad y resistencia a la corrosión, son materiales clave en la industria de los semiconductores.

Nombre	Símbolo	Pureza	Estado	Tamaño normal
Tantalum	Ta	3N/3N5/4N/4N5/5N	Objetivo multiarco	Diámetro <1000mm; espesor> 1mm
				3N/3N5/4N/4N5/5N	Objetivo rectangular	Longitud, anchura y grosor no están limitados, Rectangular/hoja/escalonada (la longitud se puede combinar)
				4N/4N5	Pellets	Φ 33mm, φ 66mm, 3-10mm (pedido mínimo 100g) Se pueden personalizar más tamaños
				2N8	Polvo	φ 33mm, φ 66mm, 3-10mm (minimum order 100g) more sizes can be customized
				3N/3N5	NiV7	El tamaño se puede personalizar según sea necesario
				3N/3N5/4N	NiCr	Size can be customized as required
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